作为世界顶级的光刻机制造商，荷兰ASML掌握着全球半导体行业的命脉。每一代光刻机的更新也代表了这种新一代芯片的到来。
就在近日，据外媒报道，ASML已经开始制造新一代极紫外(EUV)光刻机，每台成本已经达到1.5亿美元，约合10亿人民币。
据悉，ASML早就表示新一代EUV光刻机，即纳EUV光刻机，可能会在2023年正式推出商用，它将用于制造3纳米和2纳米工艺的芯片。
现在，ASML新一代EUV光刻机已经正式开始制造，这意味着新一代EUV光刻机即将到来，离下线商用又近了一步。
新一代EUV光刻机在技术上更先进，尺寸自然也更大，大约有一辆公共汽车那么大。整机包含10万个零件和2公里长的电缆。每台机器需要40个集装箱、3架货机或20辆卡车来运送。
根据外媒的消息，制造的组件将于2021年底运往荷兰Vihoeven，然后在2022年初安装在新一代极紫外光刻机的首台样机中。英特尔可能会用这台新机器制造第一批芯片。英特尔表示，预计将在2023年推出第一批芯片。以之前任何一台机器蚀刻出来的图案尺寸都更小，每个芯片里有几百亿个元件，未来几年这台机器生产出来的芯片应该是有史以来处理速度最快，效率最高的。
“这真的是一台不可思议的机器，”麻省理工学院研究新晶体管架构的教授杰西·德尔·阿拉莫说。“这绝对是一个革命性的产品和突破，将为芯片行业带来新的生命。”
然而，一些美国芯片行业分析师表示，“实际上，根本没有人喜欢使用这种东西，但它是制造结构非常精确的芯片的唯一工具。”
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